Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Laserschreiben
Laserinterferenz-Lithografie
Belichtungswellenlängen außerhalb der Absorptionsbanden des Fotolacks
Verkleben der Lackschicht mit der Maske
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → Bzgl. starken Verdünnungen geeigneter Fotolack?
 → Ausreichend hochauflösender Fotolack?
Die bei der Laserinterferenz-Lithografie oftmals geforderten sehr hohen Auflösungen im sub-µm Bereich lassen sich nur mit bestimmten Lacken erzielen. Wir empfehlen den temperaturstabilen AZ® 701 MiR für nachfolgende trockenchemische oder die AZ® ECI 3000 Serie für nachfolgende nasschemische Prozesse.
Weiter führende Technische Infos:

 → Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
 → Lithografie-Forum Lithotalk