Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Ausreichender Softbake?
Ausreichende Lackhaftung?
Zu hohe Belichtungsintensität?
Zu dicke Fotolackschicht?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Der beim Belichten von Positiv- oder Umkehrlacken gebildete Stickstoff kann an Stellen schlechter Lackhaftung lokal Bläschen bilden. Empfehlungen zur optimalen Substratvorbehandlung gibt Kapitel 41.
Weiter führende Technische Infos:

 → Belichten von Fotolack
 → (Schlechte) Lackhaftung
 → Prozessierung von Umkehrlacken
 → Substratreinigung und Haftvermittlung
 → Lithografie-Forum Lithotalk