 MicroChemicals GmbH
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89079 Ulm, Germany
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Impressum / Datenschutz |
| → Lackrückstände durch die Entwicklung? |
| → Lackrückstände durch falsch angewandtes HMDS? |
| → Lackrückstände durch Quervernetzung durch das Substrat? |
| → Unterwandern bzw. Unterwachsen der Lackmaske? |
| Durch das Aufquellen von Fotolack kann die Haftung zum Substrat während der galvanischen Abformung nachlassen. Tipps zur Optimierung der Lackhaftung gibt Kapitel 41. Die für die Galvanik optimierten Negativlacke AZ® 15 nXT und AZ® 125 nXT weisen eine auf den meisten Substratmaterialien verbesserte Lackhaftung auf. Auf Edelmetallen verbessert ein wenige nm dünner Titan-Film (alternativ Chrom oder Aluminium) die Lackhaftung deutlich. Ein solch dünner Metallfilm kann - falls erforderlich - nach dem Entwickeln auf den frei entwickelten Stellen in geeigneten Medien entfernt werden. Hierbei ist darauf zu achten, dass lateral nicht zu stark unter den Lackfilm geätzt wird, d. h. der Ätzvorgang möglichst zeitgleich mit dem Entfernen der Haftschicht beendet wird. |
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