Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Aufdampfen oder Sputtern?
Lackprofil: Geeigneter Fotolack?
Erweichen beim Beschichten?
Geeignetes Lift-off Medium?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Während beim mehr oder weniger isotropen Sputtern auch senkrechte oder unterschnittene Lackflanken mit beschichtet werden, führt das gerichtete Aufdampfen generell zu einem deutlich besseren Ergebnis beim Lift-off. Vor allem bei dicken (> einige 100 nm) aufgebrachten Schichten sollte - wo anwendbar - das Aufdampfen dem Sputtern vorgezogen werden (28.3 auf Seite 148).
Weiter führende Technische Infos:

 → Lift-off Prozesse mit Fotolacken
 → Lithografie-Forum Lithotalk