Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Aufdampfen oder Sputtern?
Lackprofil: Geeigneter Fotolack?
Erweichen beim Beschichten?
Geeignetes Lift-off Medium?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → (Un)geeignete Lösemittel
 → Geeignete Spezial-Stripper?
Für thermisch quervernetzte Positivlacke oder Negativlacke wie der AZ® nLOF 2000 Serie oder dem AZ® 15 nXT oder AZ® 125 nXT empfehlen sich die Hochleistungs-Stripper TechniStrip P1316 für Positivlacke und AZ® 125 nXT bzw. TechniStrip NI555 für die AZ® nLOF 2000 Serie und den AZ® 15 nXT.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entfernen von Fotolacken
 → Lift-off Prozesse mit Fotolacken
 → Lithografie-Forum Lithotalk