Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Entwickler korrekt verdünnt?
Kompatibler Entwickler?
Optimaler Softbake?
Zersetzung des Fotoinitiators durch zu lange oder falsche Lagerung?
Bei Umkehr- oder Negativlacken?
Versehentliche Belichtung „dunkler“ Bereiche bei Positivlacken?
Nachentwicklung?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → Streuung in der Lackschicht
Bei zu hohen Lichtdosen kann Lichtstreuung (Rayleigh-Streuung) innerhalb der Fotolackschicht auch nominell dunkle Bereiche belichten, welche dann im Entwickler mit abgetragen werden.
 → Proximity Gap beim Belichten
 → Texturierte Substrate
 → Keine ausreichenden Gelblichtbedingungen
Weiter führende Technische Infos:

 → Belichten von Fotolack
 → Entwickeln von Fotolack
 → Lithografie-Forum Lithotalk