Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Entwickler korrekt verdünnt?
Kompatibler Entwickler?
Optimaler Softbake?
Zersetzung des Fotoinitiators durch zu lange oder falsche Lagerung?
Bei Umkehr- oder Negativlacken?
Versehentliche Belichtung „dunkler“ Bereiche bei Positivlacken?
Nachentwicklung?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Beim Entwickeln dringt der alkalische Entwickler auch in die nicht zu entwickelnde Lackschicht ein. Wird nach dem Entwickeln nicht ausreichend gespült, konzentrieren sich beim anschließenden Trocknen diese Entwickler-Rückstände in der Lackschicht auf und bilden mit dem Wasser eines nachfolgenden Entwicklungsschritts eine starke Base, welche eine Schicht des Lacks abtragen kann. Kann auf eine Nachentwicklung nicht verzichtet werden, sollte nach dem Entwickeln besonders gründlich mit Wasser gespült werden.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entwickeln von Fotolack
 → Lithografie-Forum Lithotalk