Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Nach Backschritten belichteten Fotolacks?
Nach einer Beschichtung (Sputtern, Aufdampfen) oder Trockenätzen?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Restlösemittel?
Die hierbei auftretende Temperaturerhöhung lässt in den Lackstrukturen Restlösemittel oder beim Entwickeln aufgenommenes Wasser verdunsten. Unterstützt durch den geringen Hintergrunddruck wie auch den unter Wärme erweichenden Fotolack können hierdurch Bläschen im Lack entstehen. Ein längerer/heißerer Softbake verringert den Restlösemittelanteil, ein Backschritt nach dem Entwickeln ausreichend weit unterhalb der Erweichungstemperatur der verwendeten Fotolacks (6.5 auf Seite 43) zudem den Wassergehalt.
 → Stickstoff?
Weiter führende Technische Infos:

 → Entwickeln von Fotolack
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Reflow von Fotolacken
 → Softbake von Fotolackschichten
 → Lithografie-Forum Lithotalk