Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Haftungsprobleme?
Unterätzen?
Unregelmäßiger Ätzstart?
Unregelmäßige Ätztiefen beim Al-Ätzen?
Lackschädigung mit HNO3-haltigen Ätzen?
Keine Lackbeständigkeit in alkalischen Medien (KOH, TMAH ...)?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Bei stark oxidierenden Medien kann ein Hardbake nach dem Entwickeln bei ca. 140°C die chemische Beständigkeit des Lacks erhöhen.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entwickeln von Fotolack
 → Hardbake für Fotolackstrukturen
 → Lithografie-Forum Lithotalk