Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Unzureichende Lackstabilität im Elektrolyten
Verunreinigung der Galvanik durch austretendes Restlösemittel?
Unerwünschtes Lackprofil
Die aufgewachsene Metallstruktur haftet nicht gut?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Saure Bäder?
 → Alkalische Bäder?
Alkalische Bäder sind kritischer. Ab einem pH-Wert von ca. 10 (abhängig von der Temperatur des Bades und der Dauer der Galvanik) wird die Lackmaske zunehmend angegriffen. Quervernetzende Lacke wie der AZ® 15 nXT, der AZ® 125 nXT oder die AZ® nLOF 2000 Serie besitzen eine höhere Stabilität im Alkalischen als Positiv- oder Umkehrlacke.
Weiter führende Technische Infos:

 → Galvanik mit Fotolack-Masken
 → Prozessierung von Umkehrlacken
 → Lithografie-Forum Lithotalk