Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Laserschreiben
Laserinterferenz-Lithografie
Belichtungswellenlängen außerhalb der Absorptionsbanden des Fotolacks
Verkleben der Lackschicht mit der Maske
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → Bzgl. starken Verdünnungen geeigneter Fotolack?
Hierbei werden oft sehr dünne Lackschichten benötigt, welche meist nur durch Verdünnen bestehender Lacke erreicht werden können. Während z. B. die AZ® 1500 und AZ® 6600 Lackserien auf zu starke Verdünnung mit rascher Partikelbildung reagieren, eignen sich der AZ® 701 MiR und die AZ® ECI 3000 Serie auch für hohe Verdünnungen, wofür wir das Lösemittel PGMEA = AZ® EBR Solvent empfehlen.
 → Ausreichend hochauflösender Fotolack?
Weiter führende Technische Infos:

 → Lagerung, Alterung, Umfüllung und Verdünnung von Fotolacken
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Lithografie-Forum Lithotalk