Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Ausreichende Rehydrierung?
Ausreichende Belichtungsdosis bei Positivlacken?
Kompatibler Entwickler?
Entwickler noch aktiv?
Entwickler zu stark verdünnt?
HMDS korrekt angewandt, oder Kontamination mit anderen Medien?
Thermische Zersetzung des Fotoinitiators?
Lackschichtdicke größer als erwartet?
Geänderte Substratreflektivität?
Bei Negativ- oder Umkehrlacken im Umkehrmodus?
Bei chemisch verstärkten Lacken?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz

 → Korrekte Anwendung von HMDS
Wird HMDS aufgeschleudert bzw. bei Raumtemperatur aus der Gasphase aufgebracht, oder dringen die Dämpfe von abgeschleudertem HMDS beim Belacken in die Lackschicht ein, aktiviert sich das HMDS unter der Fotolackschicht erst während des Softbakes. Das hierbei abgespaltene Ammoniak kann v. a. Substrat-nahe Fotolackbereiche chemisch verändern (quervernetzen) und damit eine (Durch-)entwicklung verhindern bzw. die Entwicklungsrate verringern. Wir empfehlen dringend, HMDS aus der Gasphase auf beheizte Substrate aufzubringen und Lack als auch Lackschicht fern von HMDS-Dämpfen zu halten. Aus diesem Grund darf HMDS auch auf keinen Fall in Lackschleudern eingesetzt werden, in der parallel Belackungen mit Fotolack durchgeführt werden.
 → Kontamination aus der Luft
Weiter führende Technische Infos:

 → Aufschleudern von Fotolack
 → Entwickeln von Fotolack
 → Softbake von Fotolackschichten
 → Lithografie-Forum Lithotalk