Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Aufdampfen oder Sputtern?
Lackprofil: Geeigneter Fotolack?
Erweichen beim Beschichten?
Geeignetes Lift-off Medium?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → (Un)geeignete Lösemittel
Beim Lift-off mit dem rasch verdunstenden Aceton setzen sich oft Flitter bereits gelifteten Materials auf dem Substrat ab und lassen sich nur sehr schwer wieder entfernen. Besser geeignet sind hoch-siedende Lösemittel wie DMSO, welche aufgrund des geringen Dampfdrucks zudem auf 80°C erhitzt werden kann. Eine zusätzliche Ultraschallbehandlung kann den Lift-off beschleunigen (28.4 auf Seite 149).
 → Geeignete Spezial-Stripper?
Weiter führende Technische Infos:

 → Lift-off Prozesse mit Fotolacken
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Lithografie-Forum Lithotalk