 MicroChemicals GmbH
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| → Restlösemittel? |
| → Stickstoff? |
| Eine weitere mögliche Quelle für die Gasbildung ist Stickstoff, welcher als Produkt der Fotoreaktion in bislang unbelichteten Fotolackstrukturen durch die beim Sputtern, Trockenätzen oder Aufdampfen präsente UV-Strahlung entsteht. Um ein Belichten der Lackstrukturen während des Prozesses zu verhindern, schafft eine Flutbelichtung vor dem jeweiligen Prozess Abhilfe. Deren Dosis sollte - ohne Fotomaske - ein Mehrfaches der Struktur-definierenden Belichtung betragen, gefolgt von einer ausreichenden Wartezeit zum Ausgasen des hierbei gebildeten N2. Übliche Negativlacke sowie der chemisch verstärkte Ultradicklack AZ® 40 XT setzen beim Belichten keinen Stickstoff frei und benötigen deshalb diese Schritte nicht. |
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