Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Geeigneter Fotolack?
Gap zwischen Fotomaske und Lackoberseite?
Geeignete Softbake-Parameter?
Kompatibler und optimal angesetzter Entwickler?
Optimale Belichtungsdosis?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz

 → Mögliche Ursache:
Positivlacke wie der AZ® 1505 oder AZ® 1512HS erlauben Strukturgrößen unter 1 µm, der AZ® 701 MiR und der AZ® ECI 3007 auch unter 0.5 µm. Unter den Negativlacken eignet sich der AZ® nLOF 2020 Serie für Auflösungen im sub-µm Bereich.
Hohe Aspektverhältnisse bei dicken und sehr dicken Lackschichten sind mit den Positivlacken AZ® 9260 und 40 XT, sowie den Negativlacke AZ® 15 nXT und AZ® 125 nXT realisierbar.
Weiter führende Technische Infos:

 → Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
 → Lithografie-Forum Lithotalk