 MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz |
| → Mögliche Ursache: |
| Zwar kann ein Hardbake bei 150°C oder darüber die alkalische Stabilität von Fotolacken erhöhen. Jedoch sind selbst sehr heiß gebackene, quervernetzte Lackstrukturen als Lackmaske für anisotropes Si-Ätzen nicht ausreichend stabil. Für diesen Zweck empfiehlt sich der Einsatz von Hartmasken aus z. B. SiO2 oder Siliciumnitrid. |
|
|
