Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Aufdampfen oder Sputtern?
Lackprofil: Geeigneter Fotolack?
Erweichen beim Beschichten?
Geeignetes Lift-off Medium?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz

 → Mögliche Ursache:
Unterschnittene Lackkanten sind für ein gutes Ergebnis beim Lift-off besser als senkrechte oder gar positive Flanken. Deshalb sind Negativlacke wie die AZ® nLOF 2000 Serie oder Umkehrlacke wie z. B. AZ® 5214 E oder TI 35ES Positivlacken vorzuziehen. Sollen dennoch Positivlacke eingesetzt werden, empfehlen sich solche mit der Option nahezu senkrechter Flanken wie die AZ® ECI 3000 Serie oder der AZ® 9260 Dicklack.
Weiter führende Technische Infos:

 → Dicklackprozessierung
 → Lift-off Prozesse mit Fotolacken
 → Prozessierung von Umkehrlacken
 → Lithografie-Forum Lithotalk