Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Verfärbung/Angriff durch den Fotolack?
Angriff durch Entwickler?
Angriff durch Remover?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → Eingefärbte Lacke?
 → Lösemittel-stabile Substrate?
Die in Fotolacken eingesetzten Lösemittel sind meist sehr kräftige Lösemittel welche verschiedene Polymere angreifen. Ein rasches Schleudern unmittelbar nach dem Dispensieren sowie ein Softbake unmittelbar nach dem Belacken können etwas Abhilfe schaffen. Alternativ schützt ein dünner Metallfilm, welcher nach dem Entwickeln und nach dem Entfernen des Lacks abgeätzt werden kann das Polymer in Grenzen vor dem Lösemittel.
 → Auswirkung der Fotoreaktion?
Weiter führende Technische Infos:

 → Aufschleudern von Fotolack
 → Entwickeln von Fotolack
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Softbake von Fotolackschichten
 → Lithografie-Forum Lithotalk