Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Verfärbung/Angriff durch den Fotolack?
Angriff durch Entwickler?
Angriff durch Remover?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
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Quervernetzende Negativlacke wie die AZ® nLOF 2000 Serie oder der AZ® 15 nXT und 125 nXT können grundsätzlich auch mit einigen organischen Lösemitteln entwickelt werden, wozu wir PGMEA = AZ® EBR Solvent empfehlen. Hierbei ist ggfalls. durch angepasste Prozessparameter und einer Kontrolle des Entwicklungsvorgangs darauf zu achten, dass sich die lackschichten nicht im Lösemittel vom Substrat abheben.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entwickeln von Fotolack
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Lithografie-Forum Lithotalk