Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Verfärbung?
Unbelackte Stellen nach dem Belacken?
Streifen, Bläschen und Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken?
Bläschen in der Lackschicht erst nach dem Softbake?
Matte oder wellige Lackoberfläche nach dem Beschichten?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
info@MicroChemicals.de
Impressum / Datenschutz
 → Lackbenetzung
 → Dispensierte Lackmenge
 → Schleuderprofil
Beim Aufschleudern auf glatten Substraten verbessert oftmals eine große Beschleunigung (einige 1000 U/min/s) auf die Endschleuderdrehzahl ohne vorheriges Anschleudern das Belackungsergebnis.
Beim Aufschleudern auf texturierten Substraten ist ein langsames Anschleudern zum gleichmäßigen Verteilen des Lacks vor der Rampe auf die Endschleuderdrehzahl empfehlenswert, was jedoch relativ große Mengen an Lack erfordert.
 → Partikel, Bläschen
Weiter führende Technische Infos:

 → Aufschleudern von Fotolack
 → Lithografie-Forum Lithotalk