Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Laserschreiben
Laserinterferenz-Lithografie
Belichtungswellenlängen außerhalb der Absorptionsbanden des Fotolacks
Verkleben der Lackschicht mit der Maske
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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Impressum / Datenschutz

 → Zu große Belichtungswellenlänge?
Zu große Wellenlängen (z. B. > 450 nm bei Breitband-Lacken) sind zum Belichten bedingt geeignet, da der Empfindlichkeitsbereich von Fotolacken nicht abrupt endet, sondern über mehrere 10 nm Wellenlänge gegen Null abfällt. Jedoch werden durch die schwache Absorption die zur vollständigen Belichtung notwendigen Lichtdosen mit zunehmender Wellenlänge sehr groß. Durch die hohe Eindringtiefe des Lichts steigt auch die Gefahr, dass bei transparenten oder rauen/texturierten Substraten das Licht lateral sehr weit geführt wird was die erzielbare Auflösung verringert.
 → Belichtungswellenlänge zu klein?
Weiter führende Technische Infos:

 → Belichten von Fotolack
 → Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
 → Lithografie-Forum Lithotalk