Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Laserschreiben
Laserinterferenz-Lithografie
Belichtungswellenlängen außerhalb der Absorptionsbanden des Fotolacks
Verkleben der Lackschicht mit der Maske
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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Impressum / Datenschutz

 → Zu große Belichtungswellenlänge?
 → Belichtungswellenlänge zu klein?
Zu kleine Wellenlängen (< 340 nm für i-line- und Breitband-Lacke) erhöhen nur theoretisch die mögliche Auflösung. Durch die geringe Eindringtiefe des Lichts und die parasitäre Absorption bereits umgewandelten Fotoinitiators nimmt die zur Durchbelichtung der Lackschicht notwendige Lichtdosis stark zu was durch die bei geringen Wellenlängen immer stärker auftretende Rayleigh-Streuung die erzielte Auflösung oft verschlechtert.
Weiter führende Technische Infos:

 → Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
 → Lithografie-Forum Lithotalk