Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Geeigneter Fotolack?
Gap zwischen Fotomaske und Lackoberseite?
Geeignete Softbake-Parameter?
Kompatibler und optimal angesetzter Entwickler?
Optimale Belichtungsdosis?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Bei Positivlacken
Im Falle von Positivlacken steigt bei einer zu geringen Belichtungsdosis entweder die zur Durchentwicklung notwendige Dauer, oder der Entwickler muss höher konzentriert angesetzt werden. In beiden Fällen ist der Abtrag unbelichteten Fotolacks vergleichsweise groß, womit die erzielbare Auflösung abnimmt.
 → Bei Negativ- oder Umkehrlacken
 → Stark überbelichtet?
Weiter führende Technische Infos:

 → Entwickeln von Fotolack
 → Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
 → Lithografie-Forum Lithotalk