Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Lösemittel als Remover?
Alkalische Medien als Remover?
Hardbake bei sehr hohen Temperaturen?
Nach dem Beschichten (Sputtern, Aufdampfen, CVD)?
Nach dem Trockenätzen?
Quervernetzte Negativlacke?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Als Alternative zu organischen Lösemitteln empfiehlt sich AZ® 100 Remover, der absolut wasserfrei eingesetzt auch weitgehend kompatibel zu Aluminium ist. Alternativ kann auch NaOH oder KOH in ausreichender Konzentration (> 3 % für gängige Positivlacke) als Remover eingesetzt werden, wobei eine Quervernetzung des Fotolacks höhere Konzentrationen und/oder höhere Temperaturen erfordert.
Weiter führende Technische Infos:

 → Ätzen von Aluminium
 → Entfernen von Fotolacken
 → Lösemittel: Theorie und Anwendung
 → Lithografie-Forum Lithotalk