Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Lösemittel als Remover?
Alkalische Medien als Remover?
Hardbake bei sehr hohen Temperaturen?
Nach dem Beschichten (Sputtern, Aufdampfen, CVD)?
Nach dem Trockenätzen?
Quervernetzte Negativlacke?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Novolak-basierte Negativlacke wie die AZ® nLOF 2000 oder der AZ® 15 nXT lassen sich in hartnäckigen Fällen (z. B. starke Quervernetzung durch hohe Prozesstemperaturen) mit dem TechniStrip® NI555 auflösen, während sich für den Acryl-basierten AZ® 125 nXT sowie Epoxy-basierte Lacke, Polyimide und Trockenfilme der TechniStrip® P1316 empfiehlt.
Weiter führende Technische Infos:

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