Problemstellung:
Ungewohntes Erscheinungsbild des Fotolacks und der Lackschicht
Belackungstechniken: Häufige Problemstellungen
Belichtungstechniken: Häufige Problemstellungen
Entwicklung: Zu geringe Entwicklungsrate
Entwicklung: Zu hoher Dunkelabtrag
Schlechte Lackhaftung
Zu geringe laterale Auflösung des Fotolacks
Bläschen oder Partikel in der Lackschicht nach dem Belacken
Bläschen in der Lackschicht nach dem Belichten
Bläschen in der Lackschicht nach Back- oder Prozessschritten
Nasschemisches Ätzen: Häufige Problemstellungen
Trockenätzen: Häufige Problemstellungen
Galvanik: Häufige Problemstellungen
Lift-off funktioniert nicht (gut genug)
Substrat-Angriff durch Fotochemikalien
Fotolack lässt sich nicht mehr entfernen
Vorkommen und Erscheinung:
Optimale Substratvorbehandlung?
Beim Ätzen mit HF-haltigen Ätzlösungen?
Auf Edelmetallen?
Optimaler Softbake?
Positivlacke auf transparenten Substraten?
Umkehr- oder Negativlacke?
Beidseitig unterschiedlich metallisierte/dotierte Substratmaterialien?
Lösungsvorschläge:

MicroChemicals GmbH
Nicolaus-Otto-Str. 39
89079 Ulm, Germany
www.MicroChemicals.de
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 → Mögliche Ursache:
Sind Vorder- und Rückseite eines elektrisch leitenden Substrates mit verschiedenen Metallen bzw. unterschiedlichen Dotierungen versehen, kann sich in wässrigen Lösungen (Entwickler, Ätzmedium ...) aus beiden Seiten ein galvanisches Element bilden (24.7 auf Seite 132). Eine mögliche Folge davon ist Wasserstoff-Bildung auf einer Seite, welche die darüber liegende Lackschicht abzuheben versucht. Eine geschlossene Schutzlackschicht auf der jeweils anderen Substratseite kann diesen Effekt verhindern.
Weiter führende Technische Infos:

 → Entwickeln von Fotolack
 → (Schlechte) Lackhaftung
 → Galvanik mit Fotolack-Masken
 → Substratreinigung und Haftvermittlung
 → Lithografie-Forum Lithotalk