 MicroChemicals GmbH
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| → Zusammenspiel von Lack und Entwickler |
| Nicht jeder Fotolack lässt sich mit jedem Entwickler entwickeln. Beispielsweise erfordern der AZ® 4533 und 4562 für rückstandsfreies Entwickeln den KOH-basierten AZ® 400K oder den TMAH-basierten AZ® 826 MIF. Für die Negativlacke der AZ® nLOF 2000 Serie, den AZ® 15 nXT oder 125 nXT empfiehlt sich auf gleichem Grund ein TMAH-basierter Entwickler wie der AZ® 326 MIF, 726 MIF oder 826 MIF, wobei letzterer durch ein als Scum-Remover wirkendes Additiv besonders dazu geeignet ist, schwer entwickelbare Lackbereiche sauber zu entfernen. Der AZ® 111 XFS muss mit dem AZ® 303 entwickelt werden. |
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