 MicroChemicals GmbH
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Impressum / Datenschutz |
| → Zu heißer Post Exposure Bake? |
| → Versehentliche Belichtung |
| → Prozessführung kritischer Negativlacke |
| Für manche Negativlacke wie den AZ® 15 nXT ist die Dauer zwischen Belichtung und Post Exposure Bake, und die zwischen Post Exposure Bake und Entwicklung besonders kritisch, da hierbei die bei der Belichtung induzierten Reaktionen weiter laufen und so auch nicht-belichtete Lackbereiche quervernetzen können. Aus diesem Grund sollten bei solchen Lacken diese Zeitdauern konstant und möglich kurz (nicht länger als wenige Minuten) gewählt werden. |
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